Скачать книгу - Nano-CMOS Design for Manufacturability



Discover innovative tools that pave the way from circuit and physical design to fabrication processing Nano-CMOS Design for Manufacturability examines the challenges that design engineers face in the nano-scaled era, such as exacerbated effects and the proven design for manufacturability (DFM) methodology in the midst of increasing variability and design process interactions. In addition to discussing the difficulties brought on by the continued dimensional scaling in conformance with Moore's law, the authors also tackle complex issues in the design process to overcome the difficulties, including the use of a functional first silicon to support a predictable product ramp. Moreover, they introduce several emerging concepts, including stress proximity effects, contour-based extraction, and design process interactions. This book is the sequel to Nano-CMOS Circuit and Physical Design, taking design to technology nodes beyond 65nm geometries. It is divided into three parts: Part One, Newly Exacerbated Effects, introduces the newly exacerbated effects that require designers' attention, beginning with a discussion of the lithography aspects of DFM, followed by the impact of layout on transistor performance Part Two, Design Solutions, examines how to mitigate the impact of process effects, discussing the methodology needed to make sub-wavelength patterning technology work in manufacturing, as well as design solutions to deal with signal, power integrity, WELL, stress proximity effects, and process variability Part Three, The Road to DFM, describes new tools needed to support DFM efforts, including an auto-correction tool capable of fixing the layout of cells with multiple optimization goals, followed by a look ahead into the future of DFM Throughout the book, real-world examples simplify complex concepts, helping readers see how they can successfully handle projects on Nano-CMOS nodes. It provides a bridge that allows engineers to go from physical and circuit design to fabrication processing and, in short, make designs that are not only functional, but that also meet power and performance goals within the design schedule.


Celtic Charted Designs (Dover Needlework Series) Celtic Charted Designs (Dover Needlework Series)

Автор: Co Spinhoven

Год издания: 

Более 350 кельтских орнаментов в виде схем для вышивки крестом (и других счетных техник рукоделия). Книга просто уникальная для всех любителей кельтского орнамента и любителей рукоделия. Уровень предложенных орнаментов - от простейших "косичек" до сложных "ковровых" рисунков. Короткий пояснительный текст на английском относится, главным образом, к технике вышивки. Все схемы даны в ч/б варианте, клетка очень мелкая но хорошо различимая.


 Oracle Database 10g XML & SQL: Design, Build, & Manage XML Applications in Java, C, C++, & PL/SQL Oracle Database 10g XML & SQL: Design, Build, & Manage XML Applications in Java, C, C++, & PL/SQL

Автор: Mark Scardina

Год издания: 

Written by members of the Oracle XML group, this is a must-have reference for all IT managers, DBAs, and developers who want to learn the best practices for using XML with Oracle’s XML-enabled products. Includes real-world case studies based on theauthors’ experience managing Oracle’s XML Discussion Forum - a community of 20,000+ XML component users.


Domus Design 11 2008 Domus Design 11 2008

Автор: колектив авторов

Год издания: 



InDesign CS. Советы знатоков. killer tips InDesign CS. Советы знатоков. killer tips

Автор: Келби Скотт

Год издания: 

Авторы книги поставили перед собой цель предложить читателю самые лучшие советы и приемы работы с InDesign, которые постоянно используются профессионалами. В книге не описывается интерфейс программы, не излагаются теоретические сведения, не приводятся длинные пошаговые инструкции. Изучив представленные авторами советы, вы научитесь работать намного эффективнее, независимо от того, занимаетесь вы версткой рекламных объявлений или многостраничных документов, допечатной подготовкой документов или же подготовкой документов к размещению в Internet. Книга рассчитана на читателей с различным уровнем подготовки.


Adobe InDesign CS3. Руководство пользователя Adobe InDesign CS3. Руководство пользователя

Автор: Adobe Systems Inc.

Год издания: 

Полное руководство пользователя на русском языке Adobe® InDesign® CS3 для Windows® и Mac OS от Adobe Systems Incorporated. 700 страниц наиболее полного описания работы с программой для пользователей всех уровней. удобная навигация и рубрикатор книги.